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中微公司發(fā)布用于深紫外LED量產的MOCVD設備Prismo HiT3(TM)

2020/7/30 9:12:14 來源:中國企業(yè)新聞網(wǎng)

導言:中微半導體設備股份有限公司今日宣布推出Prismo HiT3(TM) MOCVD設備,主要用于深紫外LED量產。

  7月30日,中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)宣布推出Prismo HiT3TM MOCVD設備,主要用于深紫外LED量產。

  中微Prismo系列MOCVD設備目前已進入全球大多數(shù)領先的藍綠光LED制造商,此次推出的Prismo HiT3TM是中微Prismo系列MOCVD設備的最新產品。該設備是適用于高質量氮化鋁和高鋁組分材料生長的關鍵設備,反應腔最高溫度可達1400度,具有優(yōu)異的工藝重復性、均勻性和低缺陷率。該設備同時也為高產量而設計,單爐可生長18片2英寸外延晶片,并可延伸到生長4英寸晶片。

  中微公司Prismo HiT3TM MOCVD設備早期的客戶包括國內領先的深紫外LED制造商馬鞍山杰生半導體有限公司,該公司的深紫外LED在家用、醫(yī)療和科研設備等領域有廣泛應用。

  深紫外光幾十年前就被應用于工業(yè)和民用消毒殺菌領域。它通過破壞細菌和病毒的DNA使其喪失繁殖能力來發(fā)揮作用。深紫外LED被用于不同波長的殺菌燈中,且與傳統(tǒng)的汞燈相比對環(huán)境無污染。類似SARS、MERS和新冠病毒的出現(xiàn)使得深紫外LED產品的需求激增,深紫外LED產品可以消滅這些新生微生物。波長260-280nm的UVC波段的深紫外光就是目前該領域最先進的技術解決方案(例如杰生半導體的深紫外LED產品)。

  中微公司設計的Prismo HiT3TM MOCVD設備具有新穎的腔體設計,能在高溫環(huán)境下生長高質量氮化鋁工藝,并具有業(yè)內領先的深紫外LED高產出率;同時具備較長的平均免開腔維護間隔時間,進一步延長正常運行時間并提高產能。真空自動化傳輸系統(tǒng)可以抑制顆粒物的產生,并減少缺陷。自動化升降機構可方便維護操作并有效節(jié)省維護時間。

  “我們現(xiàn)在已經看到了深紫外LED帶來的切實好處,它已成為消滅有害病原體的重要工具!苯苌雽w有限公司董事長康健說道,“隨著深紫外LED技術的持續(xù)發(fā)展,我們?yōu)槟軌蛟诠埠图彝ハ井a品領域處于領先地位而感到自豪。中微公司設計的Prismo HiT3TM MOCVD設備可以滿足深紫外LED大批量、低生產成本的制造需求。中微公司憑借其世界一流的工藝專長和高性能的MOCVD設備解決方案,是值得信賴的合作伙伴!

  “中微自主研發(fā)的Prismo HiT3TM MOCVD設備延續(xù)了我們現(xiàn)有Prismo平臺已驗證的主要創(chuàng)新功能,并提升了可在高溫工藝環(huán)境下生長氮化鋁基材料的性能,使之拓展到深紫外LED的應用!敝形⒐緢(zhí)行副總裁兼首席運營官杜志游博士說道,“杰生半導體始終致力于持續(xù)發(fā)展LED技術并創(chuàng)造有益于人類健康的產品,我們很高興杰生成為我們的早期用戶,同時也很榮幸我們的設備解決方案能夠助力客戶研發(fā)下一代深紫外LED產品,并在技術研發(fā)和成本控制上幫助客戶達成目標!

  Prismo HiT3TM是中微公司的注冊商標。

  關于中微半導體設備(上海)股份有限公司

  中微半導體設備(上海)股份有限公司(證券簡稱:中微公司,證券代碼:688012)致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發(fā)的等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造各種微觀器件的關鍵設備,可加工微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現(xiàn)代數(shù)碼產業(yè)的基礎,它們正在改變人類的生產方式和生活方式。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶從65納米到5納米工藝的眾多刻蝕應用,中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備已在客戶生產線上投入量產,目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據(jù)領先地位。

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[責任編輯:姚小冰]
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