企業(yè)發(fā)布
首頁(yè) > 企業(yè)發(fā)布 > 詳細(xì)內(nèi)容
第一屆亞太碳化硅及相關(guān)材料國(guó)際會(huì)議將于7月在北京舉行
2018/6/15 16:43:00 來(lái)源:中國(guó)企業(yè)新聞網(wǎng)
導(dǎo)言:近年來(lái),碳化硅等寬禁帶半導(dǎo)體已成為全球高技術(shù)領(lǐng)域競(jìng)爭(zhēng)戰(zhàn)略制高點(diǎn)之一,國(guó)際半導(dǎo)體及材料領(lǐng)域研究和發(fā)展的熱點(diǎn)
亞太地區(qū)知名專家學(xué)者將齊聚APCSCRM 2018
近年來(lái),碳化硅等寬禁帶半導(dǎo)體已成為全球高技術(shù)領(lǐng)域競(jìng)爭(zhēng)戰(zhàn)略制高點(diǎn)之一,國(guó)際半導(dǎo)體及材料領(lǐng)域研究和發(fā)展的熱點(diǎn)。寬禁帶半導(dǎo)體照明已經(jīng)形成巨大規(guī)模的產(chǎn)業(yè),并在電子功率器件領(lǐng)域繼續(xù)深入發(fā)展。國(guó)際上已有ICSCRM (International Conference on Silicon Carbide and Related Materials) 和ECSCRM (European Conference on Silicon Carbide and Related Materials)兩大品牌國(guó)際會(huì)議,在地域上主要體現(xiàn)為美國(guó)和歐洲的科技發(fā)展態(tài)勢(shì),為了推動(dòng)亞太地區(qū)碳化硅等寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)與學(xué)術(shù)的發(fā)展,加強(qiáng)交流與協(xié)同創(chuàng)新,由中關(guān)村天合寬禁帶半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟、中科院物理所和北京硅酸鹽學(xué)會(huì)發(fā)起并主辦第一屆亞太碳化硅及相關(guān)材料國(guó)際會(huì)議(Asia-Pacific Conference on Silicon Carbide and Related Materials, APCSCRM 2018)將于2018年7月9日-12日在北京舉行,參會(huì)規(guī)模近400人。
此次會(huì)議將圍繞寬禁帶半導(dǎo)體材料生長(zhǎng)技術(shù)、材料結(jié)構(gòu)與物性、光電子和電子器件研發(fā)以及相關(guān)設(shè)備研發(fā)等領(lǐng)域開(kāi)展廣泛交流,促進(jìn)產(chǎn)學(xué)研的相互合作和交流。深信這次會(huì)議必將對(duì)亞太地區(qū)碳化硅等寬禁帶半導(dǎo)體材料與器件的學(xué)術(shù)研究、技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)發(fā)展起到有力的推動(dòng)作用。
APCSCRM將是一個(gè)亞太地區(qū)高水平的碳化硅等寬禁帶半導(dǎo)體相關(guān)材料、器件的產(chǎn)業(yè)與學(xué)術(shù)并重的高水平論壇。從2018年開(kāi)始,每年召開(kāi)一次大會(huì),地點(diǎn)在亞太地區(qū)不同地點(diǎn)輪換。
APCSCRM會(huì)議邀請(qǐng)來(lái)自亞太地區(qū)知名的專家學(xué)者齊聚一堂,共同學(xué)習(xí)和交流寬禁帶半導(dǎo)體材料生長(zhǎng)、器件制備及封裝和器件模塊應(yīng)用等領(lǐng)域理論和技術(shù)。以下是部分邀請(qǐng)專家簡(jiǎn)介:
1. 新井 學(xué)(新日本無(wú)線,日本)
報(bào)告名稱:寬禁帶半導(dǎo)體(碳化硅、氮化鎵、氧化鎵和金剛石)器件綜述
2. 高冰(武漢大學(xué),中國(guó))
報(bào)告名稱:碳化硅PVT生長(zhǎng)基面位錯(cuò)模擬及其控制
3. 顧亦磊(陽(yáng)光電源股份有限公司,中國(guó))
報(bào)告名稱:基于SiC MOSFET的高效高功率密度光伏逆變器
4. 土方 泰斗(琦玉大學(xué),日本)
報(bào)告名稱:基于Si和C的發(fā)射模型的SiC的熱氧化過(guò)程的宏觀模擬
5. 黃偉(復(fù)旦大學(xué),中國(guó))
報(bào)告名稱:可融合GaN/Si半導(dǎo)體器件與集成技術(shù)
6. 巖室 憲幸(筑波大學(xué),日本)
報(bào)告名稱:碳化硅MOSFET器件的最新進(jìn)展
7. 紀(jì)世陽(yáng)(產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所,日本)
報(bào)告名稱:CVD外延——新型4H-SiC超結(jié)MOSFET的關(guān)鍵技術(shù)
8. 李順?lè)澹ū本┐髮W(xué)東莞光電研究院,中國(guó))
報(bào)告名稱:硅基GaN功率電子器件的開(kāi)發(fā)應(yīng)用與展望
9. 劉國(guó)友(中國(guó)株洲中車時(shí)代電氣股份有限公司,中國(guó))
報(bào)告名稱:SiC器件在軌道交通中的應(yīng)用前景
10. 陸國(guó)權(quán)(弗吉尼亞理工大學(xué),美國(guó))
報(bào)告名稱:汽車用高功率密度碳化硅功率模塊的封裝
11. 松浦 秀治( 大阪電氣通信大學(xué),日本)
報(bào)告名稱:利用霍爾效應(yīng)測(cè)量寬禁帶半導(dǎo)體的電學(xué)特性
12. 水原 德。≧OHM半導(dǎo)體(上海)有限公司,日本)
報(bào)告名稱:功率器件(SiC)的市場(chǎng)應(yīng)用~SiC功率器件的特征、應(yīng)用
13. 邱顯欽(長(zhǎng)庚大學(xué),臺(tái)灣)
報(bào)告名稱:六寸硅基氮化鎵功率與微波器件封裝與模塊開(kāi)發(fā)
14. 邱宇峰(全球能源互聯(lián)網(wǎng)研究院,中國(guó))
報(bào)告名稱:SiC器件在未來(lái)電網(wǎng)中的應(yīng)用
15. 孫國(guó)勝(東莞天域半導(dǎo)體科技有限公司,中科院半導(dǎo)體所,中國(guó))
報(bào)告名稱:4H-SiC中三角形缺陷結(jié)構(gòu)及成因研究進(jìn)展
16. 溫旭輝(中國(guó)科學(xué)院電工研究所,中國(guó))
報(bào)告名稱:電動(dòng)汽車用超高功率密度SiC逆變電源的技術(shù)途徑分析
17. 張清純(北卡羅來(lái)納州立大學(xué),美國(guó))
報(bào)告名稱:寬禁帶半導(dǎo)體器件(氮化鎵和碳化硅)及其應(yīng)用的現(xiàn)狀與展望
本次會(huì)議還面向國(guó)內(nèi)外高校、科研院所和企事業(yè)單位的寬禁帶半導(dǎo)體材料、器件、應(yīng)用領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員征稿,投稿說(shuō)明:
1. 投稿通過(guò)APCSCRM官網(wǎng)在線投稿
(投稿操作說(shuō)明:,論文提交欄目下載)
2. 摘要提交截止日期:2018年6月30日
3. 全文投稿截止日期:2018年7月31日
4. 投稿人請(qǐng)隨時(shí)關(guān)注論文評(píng)審情況(APCSCRM官網(wǎng)在線投稿系統(tǒng))。
免責(zé)聲明:
※ 以上所展示的信息來(lái)自媒體轉(zhuǎn)載或由企業(yè)自行提供,其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)本網(wǎng)站證實(shí),對(duì)本文以及其中全部或者部分內(nèi)容、文字的真實(shí)性、完整性、及時(shí)性本網(wǎng)站不作任何保證或承諾,請(qǐng)讀者僅作參考,并請(qǐng)自行核實(shí)相關(guān)內(nèi)容。如果以上內(nèi)容侵犯您的版權(quán)或者非授權(quán)發(fā)布和其它問(wèn)題需要同本網(wǎng)聯(lián)系的,請(qǐng)?jiān)?0日內(nèi)進(jìn)行。
※ 有關(guān)作品版權(quán)事宜請(qǐng)聯(lián)系中國(guó)企業(yè)新聞網(wǎng):020-34333079 郵箱:cenn_gd@126.com 我們將在24小時(shí)內(nèi)審核并處理。
標(biāo)簽 :
相關(guān)網(wǎng)文
24小時(shí)熱點(diǎn)圖片
一周新聞資訊點(diǎn)擊排行
關(guān)于我們 | CENN服務(wù) | 對(duì)外合作 | 刊登廣告 | 法律聲明 | 聯(lián)系我們 | 手機(jī)版
客戶服務(wù)熱線:020-34333079、34333137 傳真:020-34333002 舉報(bào)電話:020-34333002、13925138999(春雷) 舉報(bào)郵箱:cenn_gd@126.com
版權(quán)所有:中國(guó)企業(yè)新聞網(wǎng) 運(yùn)營(yíng)商:廣州至高點(diǎn)網(wǎng)絡(luò)技術(shù)有限公司 地址:廣州市海珠區(qū)江燕路353號(hào)保利紅棉48棟1004